EN 
CN
AR
DA
NL
FR
DE
IT
JA
KO
RU
ES
SV
VI
TH
TR
GA
BE
UK
MS
JW
LO
LA
SU
TG
UZ
MYအမေရိကန် CONTACT
-
ကာဗိုက်/ကြွေထည်ထုတ်ကုန်များအတွက် အလျားလိုက်ဓာတ်ငွေ့ဖိအားဖြင့် ပေါင်းခံမီးဖို
ဓာတ်ငွေ့ဖိအားဖြင့် အပူပေးသည့် မီးဖိုသည် အပူနှင့် အပူလျှပ်ကာအဖြစ် ဂရပ်ဖိုက်ဖြင့် ပြုလုပ်ထားသော အလျားလိုက်၊ ခုခံအားဖြင့် အပူပေးထားသော မီးဖိုတစ်ခုဖြစ်သည်။ PLC ထိန်းချုပ်ကိရိယာသည် Siemens S7 ယူနစ်ဖြစ်သည်။
နောက်ထပ် -
Carbide CNC ထည့်သွင်းရန်အတွက် CVD 530L အပေါ်ယံလွှာမီးဖို
ကိုယ်တိုင်တီထွင်ထားသော အပေါ်ယံလွှာပစ္စည်းများဖြင့် RUIDEER သည် ဖောက်သည်တစ်ဦးချင်းစီ၏ တိကျသောဖြတ်တောက်ခြင်းကိရိယာအတွက် ကိုက်ညီသော အပေါ်ယံလွှာလုပ်ငန်းစဉ်နှင့် အပေါ်ယံလွှာပစ္စည်းများကို ရွေးချယ်ပါမည်။
နောက်ထပ် -
PVD နှင့် CVD အုပ်ခြင်းဝန်ဆောင်မှု
ကာဗိုက်ကိရိယာများ၊ အညွှန်းထည့်နိုင်သော ချည်ထိုးသွင်းကိရိယာများ၊ ဖြတ်တောက်ခြင်း၊ မြောင်းဖောက်ထည့်သွင်းကိရိယာများ၊ ကာဗိုက်ပြောင်းလဲနိုင်သော ထည့်သွင်းကိရိယာများ- လှည့်သွင်းကိရိယာများအတွက် အပေါ်ယံလွှာများ၊ ကြိတ်ခွဲသည့်ထည့်သွင်းကိရိယာများ။
နောက်ထပ် -
တိကျသော အစိတ်အပိုင်းများအတွက် အရည်အသွေးကောင်းမွန်သော MIM Sintering Furnace
Integrated Vacuum Dewaxing Sintering Furnace ဟုလည်း လူသိများသည်
နောက်ထပ် -
ဘိလပ်မြေကာဗိုက်နှင့် ဆာမက်များကို အထူးအပူပေးရန်အတွက် လျင်မြန်စွာအအေးပေးမီးဖို
ဤစနစ်သည် RUIDEER ၏ အဆင့်မြင့် အလွန်မြင့်မားသော အမြန်နှုန်းရှိသော အအေးပေးနည်းပညာကို အသုံးပြုထားပြီး၊ ၎င်းသည် စက်ပစ္စည်းအား ပန်ကာများနှင့် အပူလဲလှယ်စက်များမှတစ်ဆင့် sintering အပူချိန်တွင် အမြန်အအေးပေးသည့် အစီအစဉ်ကို စတင်နိုင်စေပါသည်။
နောက်ထပ် -
ထုတ်ကုန်များကို ဖုန်စုပ်အပူပေးခြင်း၊ ဖုန်စုပ်အပူပေးခြင်းဖြင့် အပူပေးစနစ်ဖြင့် ...
အပူချိန်တိကျမှု တသမတ်တည်းရှိမှု၊ ခေတ်မီထိန်းချုပ်မှုစနစ်များပါရှိသော အဆင့်မြင့်ဖုန်စုပ်မီးဖိုများ။
နောက်ထပ် -
ကာဗိုက်/ကြွေထည်ထုတ်ကုန်များအတွက် အပူချိန်မြင့် Sintering မီးဖို
အပူချိန်မြင့်မားခြင်း (၁၆၀၀ ℃ -၂၂၀၀ ℃)၊ တိကျသော အပူချိန်တူညီမှုရှိသော မြင့်မားသောဖုန်စုပ်မီးဖိုများ၊ ခေတ်မီထိန်းချုပ်မှုစနစ်များနှင့် အားလုံးကို မြန်ဆန်သောအအေးပေးစနစ်ဖြင့် ရရှိနိုင်ပါသည်။
နောက်ထပ် -
တစ်ပိုင်းလျှပ်ကူးပစ္စည်း၏ Epitaxial အလွှာအတွက် အလျားလိုက်ဆီလီကွန်ကာဗိုက်ဒ် CVD အပေါ်ယံလွှာမီးဖို
ဤပစ္စည်းကို ကာဗွန်အခြေခံ/ကြွေအခြေခံပစ္စည်းများကို ဆီလီကွန်ကာဗိုက်ဖြင့် အပေါ်ယံလွှာပြုလုပ်ရာတွင် အထူးသဖြင့် ဆီလီကွန်ကာဗိုက်ကို တစ်ပိုင်းလျှပ်ကူးပစ္စည်း epitaxial susceptor နှင့် etching ring ၏ မျက်နှာပြင်ပေါ်တွင် စုပုံရာတွင် အသုံးပြုသည်။
နောက်ထပ်
